腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性,这样就能满足刻蚀的需要。利用等离子处理时会发出辉光,故称之为辉光放电处理。 等离子清洗需要控制的真空度约为100pa,这种真空度在工厂实际生产中很轻易实现。这种装置的设备本钱不高,加上清洗过程不需要使用价格昂贵的有机溶剂,因此它的运行本钱要低于传统的清洗工艺。
由于不需要对清洗液进行运输、贮存、排放等处理措施,所以生产场地很轻易保持清洁卫生。
等离子清洗的最大技术特点是:它不分处理对象,可处理不同的基材,无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、据四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物)都可用等离子体很好地处理。
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